삼성전자는 올해 시설투자는 31조8000억원, 이 중 반도체만 24조9000억원 수준이라고 31일 밝혔다. 디스플레이는 3조7000억원 수준이다.
반도체는 메모리의 경우 평택에 생산 라인을 증설해 지난해 대비 소폭 시설투자가 증가했으나, 파운드리는 지난해 10나노 공정 관련 증설이 완료됨에 따라 올해 투자는 전년 대비 감소할 것으로 예상된다고 삼성전자 측은 밝혔다.
디스플레이도 지난해 플렉시블 OLED 패널 생산량 증설 투자가 집중돼 올해 시설투자는 감소했다.
3분기 시설투자는 5조6000억원으로, 사업 부문별로는 반도체 4조5000억원, 디스플레이 5000억원 수준이다. 3분기까지 누계로는 22조3000억원을 집행했다.
반도체는 메모리의 경우 평택에 생산 라인을 증설해 지난해 대비 소폭 시설투자가 증가했으나, 파운드리는 지난해 10나노 공정 관련 증설이 완료됨에 따라 올해 투자는 전년 대비 감소할 것으로 예상된다고 삼성전자 측은 밝혔다.
디스플레이도 지난해 플렉시블 OLED 패널 생산량 증설 투자가 집중돼 올해 시설투자는 감소했다.
3분기 시설투자는 5조6000억원으로, 사업 부문별로는 반도체 4조5000억원, 디스플레이 5000억원 수준이다. 3분기까지 누계로는 22조3000억원을 집행했다.
